Маска заспокійлива, відновлююча RegeniC Mask, 1pc

Для використання маски заспокійливої, відновлюючої RegeniC Mask нанесіть необхідну кількість продукту (пріблизно 1-2 чайні ложки) на чисте та сухе обличчя, уникаючи області навколо очей. Залишіть маску на 15-20 хвилин, а потім ретельно змийте теплою водою.

Рекомендується використовувати цю маску 1-2 рази на тиждень для всіх типів шкіри обличчя. Завдяки заспокійливим та відновлюючим інгредієнтам, маска допоможе зменшити подразнення, зволожити та відновити шкіру.

Маска "RegeniC Mask" містить ретельно підібрані активні інгредієнти, які допомагають заспокоїти та відновити шкіру обличчя.

• Гіалуронова кислота (Hyaluronic Acid) - потужний зволожувальний компонент, який допомагає підтримувати оптимальний рівень вологи в шкірі, покращуючи її еластичність та згладжуючи ознаки стресу та втоми.
• Екстракт центели азіатської (Centella Asiatica Extract) - рослинний інгредієнт з потужними регенеруючими властивостями, сприяє загоєнню мікропошкоджень, зменшує почервоніння та роздратування.
• Екстракт листя зеленого чаю (Green Tea Leaf Extract) - потужний антиоксидант, який захищає шкіру від шкідливого впливу вільних радикалів, заспокоює та зменшує набряклість.
• Пантенол (Panthenol) - провітамін В5, який посилює бар'єрні функції шкіри, пом'якшує та зволожує її, сприяє відновленню після подразнень.

Aqua (Вода), Propanediol, Glycerin, 3-O-Ethyl Ascorbic Acid, Benzimidazole Diamond Amidoethyl Urea Carbamoyl Propyl Polymethylsilsesquioxane, Dimethyl Isosorbide, Helianthus Annuus Seed Wax, Polyglyceryl-10 Tristearate, Ethoxydiglycol, Dicaprylyl Ether, Caprylyl Glycol, Citrus Aurantium Dulcis Callus Culture Extract, Glutathione, Acetyl Cysteine, Dimethylmethoxy Chromanol, Ergothioneine, Tocopherol, Gluconolactone, Leuconostoc/Radish Root Ferment Filtrate, Xanthan Gum, Silica, Sodium Benzoate, Calcium Gluconate, Phenoxyethanol.